Vakuum Sputtersystem Højvakuum Sputtersystem er en maskine, der deponerer tynde film af metal og dielektriske materialer på substrater op til 300 millimeter. Systemet anvender magnetron-sputterkilder, der drives af radiofrekvens, jævnstrøm eller pulserende jævnstrøm, og kan arbejde i enkelt tilstand eller co-deponeringstilstand. En modulær struktur muliggør enkel installation, transport og vedligeholdelse. Kabinettet er fremstillet af koldvalset stål med formet metalplade og sprøjtelakeret finish, en indre ramme af aluminium og et gennemskinneligt gråt låg af akryl. Kontrolskærmen følger ergonomiske principper.
Projekt navn : Ultra High Vacuum Sputtering System, Designernes navn : Yong Zhang, Kundens navn : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University.
Dette fantastiske design er vinderen af bronze-designprisen i arkitektur, bygning og struktur designkonkurrence. Du bør bestemt se den bronzepræmierede designers designportefølje for at opdage mange andre nye, innovative, originale og kreative arkitektur-, bygnings- og strukturdesignværker.
